Optische Technologien
Innovatives Maskensystem für die Halbleiter-Lithographie
Steinmeyer Mechatronik, der Spezialist für Positioniersysteme aus Dresden, hat ein innovatives Maskensystem für die UV-Lithographie in der Halbleitertechnik entwickelt. Die XY-Theta-Verstellung mit Parallelkinematik zeichnet sich durch eine hervorragende Genauigkeit, eine leichte Handhabung sowie ein optimiertes Wartungskonzept aus. Das Maskensystem erlaubt Weiterlesen…